[单选] 解决方案是在研究开发的哪个阶段中被执行的：（）

在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。 均匀性。 表面平整度。 自由应力。 纯净度。 电容。 我如何查询我短信俱乐部的积分、排名？ 散手比赛中禁击部位有（）. 眼部。 颈部。 裆部。 后脑。 什么叫采掘带？什么叫采区？ 为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染，可在靶室前增加一个（）或采用无油泵。 液氮冷阱。 净化阱。 抽气阱。 无气泵。 解决方案是在研究开发的哪个阶段中被执行的：（）