在可调节架上可进行()简单架上可进行()简单架上进行排牙时() ["A．正中位","B．非正中位","C．两者均有","D．两者均无"]
在正常情况下，人工前牙应排列于牙槽嵴的()对于轻度上颌前突的无牙颌患者，在排列前牙时，下前牙排列可()对于轻度下颌前突的无牙颌患者，在排列前牙时，可将上前牙()对于轻度下颌前突的无牙颌患者，在排列前牙时，可将下前牙()在无牙颌病例中，若上颌弓后部略宽于下颌弓者，下颌后牙的排列正确位置是()在无牙颌病例中，若上颌弓后部略宽于下颌弓者，可以将上颌后牙排列为() ["A．稍向唇侧","B．稍向舌侧","C．两者均有","D．两者均无"]
全口义齿在咀嚼时，上颌义齿被推向前，可表明()全口义齿在咀嚼时，下颌义齿被推向前，可表明()全口义齿在咀嚼时，义齿固位良好，可表明() ["A．平面前低后高","B．平面前高后低","C．两者均有","D．两者均无"]
全口义齿排牙时，上颌第一前磨牙的舌尖离开平面()全口义齿排牙时，上颌第二前磨牙的颊舌尖离开平面()全口义齿排牙时，上颌第一磨牙的远中颊尖离开平面()全口义齿排牙时，上颌第二磨牙的远中颊尖离平面() ["A．0mm","B．0.5mm","C．1mm","D．1.5mm","E．2.5mm"]
ENA抗原中主要包括下列哪些抗原() ["A．Sm","B．RNP","C．Jo-1","D．Scl-70","E．SSA和SSB"]
全口义齿上颌基托的颊侧磨光面应形成()全口义齿上颌基托的腭侧磨光面应形成()全口义齿下颌基托磨牙区的颊侧磨光面应形成()全口义齿下颌基托舌侧磨光面应形成()全口义齿下颌基托的颊侧在前牙区的磨光面应形成()
