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集成电路制造工艺员(三级)题库
问题:
[单选] 在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时间大约()为宜。
A . 4~6h
B . 50min~2h
C . 10~40min
D . 5~10min
触媒使用后期,操作上不再对()进行控制。 A、合成气的H/C。 B、循环气中甲烷。 C、循环气中一氧化碳。 D、循环气中氮气。 下列电气元件是耗能件的是()。 白炽灯。 线圈。 电容。 电感。 布孔参数有什么? 主回路与控制回路对地绝缘电阻应不小于()兆欧。 0.5。 1。 1.5。 2。 散打在武术中属于()类。 A、表演。 B、技巧。 C、套路。 D、格斗。 在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时间大约()为宜。
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相关题目:
触媒使用后期,操作上不再对()进行控制。
下列电气元件是耗能件的是()。
布孔参数有什么?
主回路与控制回路对地绝缘电阻应不小于()兆欧。
散打在武术中属于()类。
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